沃特世 基質(zhì)輔助激光解吸電離飛行時(shí)間質(zhì)譜MALDI SYNAPT G2-Si

廣州深華公司提供的沃特世XMALDI SYNAPT G2-Si 基質(zhì)輔助激光解吸電離飛行時(shí)間質(zhì)譜質(zhì)量過(guò)硬，物美價(jià)廉。

型號：XMALDI SYNAPT G2-Si

產(chǎn)品描述：

MALDI SYNAPT G2-Si是功能強大的通用型MS平臺。它是結合復雜樣品分析中多維分離的唯一手段，其功能涵蓋成像、生物樣品研究和化工材料鑒定。

高效、準確的質(zhì)量MALDI MS/MS

利用T-Wave IMS實(shí)現卓越的離子化后分離

高清晰成像（HDI）MALDI工作流程

多種實(shí)驗類(lèi)型選擇

極佳的UPLC/MS/MS性能

高性能精確質(zhì)量數MALDI MS/MS

MALDI SYNAPT G2-Si 質(zhì)譜系統適用于成像、化工材料鑒定、蛋白質(zhì)組學(xué)和制藥領(lǐng)域，可讓您得到最佳的結果。MALDI SYNAPT G2-Si由一臺脈沖頻率為2.5KHz的固態(tài)激光器驅動(dòng)，可實(shí)現分析過(guò)程中光譜采集速率的最大化。光斑大小可根據試驗需要進(jìn)行配置，不論是定性分析中靈敏度和速度的優(yōu)化還是成像研究中測定最高空間分辨率下化合物的空間分布均適用。

由于Tof分析儀的正交幾何結構，離子源在質(zhì)譜分析中實(shí)現“去耦合”。因此，與軸向MALDI-Tof或Tof/Tof儀器不同，該設備能夠確保在廣泛的質(zhì)量范圍內，對于MS和MS/MS模式都能獲得高分辨率和準確質(zhì)量數。此外，SYNAPT非常適合處理絕緣樣品，例如石蠟包埋型組織切片或載玻片等。

利用T-Wave IMS實(shí)現卓越的離子化后分離

某些情況下，色譜和質(zhì)量數分辨率還不能滿(mǎn)足要求。借助高效T-Wave離子淌度技術(shù)，您可以在分子大小和形狀的基礎上獲得另一個(gè)分離維度。利用分子碰撞截面（CCS）特性這一項獨特的功能，可以提供最高水平的選擇性、特異性、靈敏度和結構分析。其優(yōu)點(diǎn)還包括同分異構體分離、消除干擾、生成更干凈的譜圖，以及借助CCS測量方法更準確地鑒定化合物。

高分辨率成像（HDI）MALDI工作流程

在同一個(gè)精簡(jiǎn)的成像工作流程中，MALDI SYNAPT G2-Si HDMS融合了T-Wave IMS和QuanTof技術(shù)，以提供無(wú)與倫比的選擇性、清晰度和可靠性。

HDI MALDI解決方案提供了一系列獨特且強大的多靶向（IMS/MS/MS）和無(wú)靶向（IMS/MSE）工作流程，包括以圖像為中心的方法設置、數據處理和圖像生成。綜合相關(guān)（基于與空間位置漂移時(shí)間相關(guān)的碎片離子）與統計工具（例如PCA、OPLS-DA、S-plots、聚類(lèi)分析）相結合，提供了更智能、更可靠的成像分析。

在SYNAPT上可以使用全面的UPLC/MS/MS功能，同時(shí)能夠在同一個(gè)平臺上對生物液體或激光切割組織切片進(jìn)行高效定量和定性分析。

通用型實(shí)驗選件

借助高解析度四極桿和雙碰撞室TriWave裝置，SYNAPT提供了高質(zhì)量CID碎裂功能，可用于小分子和脂類(lèi)以及糖和聚合物等的MS/MS鑒定。例如，與傳統MS3技術(shù)相比，時(shí)間對齊平行碎裂可提供卓越的數據質(zhì)量和占空比。 沃特世的離子源結構可與多種直接分析技術(shù)相結合，例如ASAP、DESI、DART、LAESI和LDTD。它們可快速互換，在幾分鐘內即可使用。MALDI SYNAPT G2-Si平臺還包括ESI、APCI、APPI電離方式的選項，并且可以兼容UPLC、nanoUPLC、HDX Automation、APGC、APC或UPC2實(shí)現分離。

極佳的UPLC/MS/MS性能

在與MALDI相同的MS平臺上，SYNAPT同時(shí)提供UPLC/MS/MS功能的選擇。

將StepWave和UPLC分離與定量飛行時(shí)間（QuanTof）技術(shù)相結合，實(shí)現最高的峰容量和數據質(zhì)量。StepWave是目前最靈敏和最可靠的離子源，具有“主動(dòng)”選擇離子和“被動(dòng)”防止中性污染物的獨特功能。

與其他所有質(zhì)譜分析器不同，QuanTof能夠提供高質(zhì)量數高分辨率、精確質(zhì)量數和準確的同位素比例、寬的動(dòng)態(tài)范圍（譜圖內和定量）和m/z范圍，并且都可以在最快的采集速率實(shí)現，即便是對于高基質(zhì)負荷的樣品也是如此。

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