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    光子相關(guān)光譜法粒度分析儀校準規范

    [2013/1/25]

      光子相關(guān)光譜法粒度分析儀主要用于測量分散于液體中的顆粒的平均粒徑,該方法所適用的顆粒粒徑范圍從幾個(gè)納米至大約1微米、或至顆粒開(kāi)始沉降時(shí)的粒徑。

      1 范圍

      本規范適用于光子相關(guān)光譜法粒度分析儀的校準。

      注1:光子相關(guān)光譜法(PCS)也稱(chēng)為準彈性光散射法(QELS)或動(dòng)態(tài)光散射法(DLS)。

      2 引用文獻

      JJF 1001-1998 通用計量術(shù)語(yǔ)及定義

      JJF 1059-1999 測量不確定度評定與表示

      JJF 1071-2000 國家計量校準規范編寫(xiě)規則

      GB/T 15481-1995 校準和檢驗實(shí)驗室能力的通用要求

      GB/T 19627-2005 粒度分析——光子相關(guān)光譜法

      ISO14887 樣品制備——粉末在液體中的分散方法

      使用本規范時(shí),應注意使用上述引用文獻的現行有效版本。

      3 符號和計量單位

      平均粒徑,xpcs average particle diameter:

      單位:nm(10^-9m)。

      4 概述

      光子相關(guān)光譜法粒度分析儀主要用于測量分散于液體中的顆粒的平均粒徑,該方法所適用的顆粒粒徑范圍從幾個(gè)納米至大約1微米、或至顆粒開(kāi)始沉降時(shí)的粒徑。

      光子相關(guān)光譜法粒度分析儀的測量原理為:被測樣品顆粒以適當的濃度分散于液體介質(zhì)中,一單色激光光束照射到此分散體系,由顆粒散射的光在某一角度被連續地測量。由于顆粒受到周?chē)后w中分子的撞擊作布朗和/或熱運動(dòng),觀(guān)察到的散射光強度將不斷地隨時(shí)間起伏漲落。假設顆粒都是各向同性的和球形的,分析這些散射光強度隨時(shí)間漲落的函數可獲得與粒徑有關(guān)的分散顆粒的相關(guān)信息。

      5 計量特性

      5.1 顆粒粒徑測量范圍:從幾個(gè)納米至大約1微米、或至顆粒開(kāi)始沉降時(shí)的粒徑;

      5.2 樣品室溫度示值的短期穩定性:不大于1.5%;

      5.3 樣品室溫度的示值誤差:不大于0.3℃;

      5.4 平均粒徑的測量重復性:不大于5%;

      5.5 平均粒徑的示值誤差。

      6 校準條件

      6.1 環(huán)境條件

      6.1.1 環(huán)境溫度:(10-30)℃

      6.1.2 環(huán)境濕度:<80%RH

      6.1.3 電源:(220±22)V,(50±1)Hz

      6.1.4 儀器安裝要求:儀器應置于清潔的環(huán)境中,避免強烈的電子噪聲和機械震動(dòng)。

      6.2 校準用標準物質(zhì)、試劑和設備

      6.2.1 標準物質(zhì)

      聚苯乙烯類(lèi)乳膠球顆粒懸浮液有證標準物質(zhì),或其他具有良好光散射性與懸浮性的球形、窄分布的顆粒度標準物質(zhì)。

      6.2.2 氯化鈉(分析純)

      6.2.3 蒸餾水或去離子水

      6.2.4 孔徑為0.2mm的一次性過(guò)濾器

      6.2.5 溫度計,測量范圍:0-50℃,測量精度:0.1℃

      6.2.6 超聲波分散器,1kW,20-40kHz

      6.3 其他要求

      6.3.1 被校儀器應平穩而牢固地安置在工作臺上,電纜線(xiàn)的接插件應緊密配合,接地良好。

      6.3.2 儀器被校時(shí)應備有使用說(shuō)明書(shū),復校時(shí)應附上次的校準證書(shū)。

      7 校準項目和校準方法

      7.1 一般檢查

      7.1.1 儀器應有下列標志:儀器名稱(chēng)、型號、制造廠(chǎng)名、出廠(chǎng)日期和出廠(chǎng)編號。

      7.1.2 儀器的按鍵、開(kāi)關(guān)、指示燈工作正常。

      7.1.3 儀器外觀(guān)無(wú)損壞,樣品室無(wú)污染。

      7.2 樣品室溫度示值的短期穩定性

      將放有適量水的樣品池放入樣品室,將溫度計插入樣品池,設定樣品室溫度為25℃,待溫度穩定后,記錄10分鐘內溫度變化值,計算25℃時(shí)樣品室溫度的示值穩定性,示值穩定性S由下式表示:

      S=(tmax-tmin)/tp ×100%

      式中:

      S ——溫度示值短期穩定性(%);

      tmax ——溫度示值的最大值(℃);

      tmin ——溫度示值的最小值(℃);

      tp ——溫度示值的平均值(℃)。

      7.3 樣品室溫度的示值誤差

      按儀器技術(shù)指標規定的溫度范圍,設定溫度從最低點(diǎn)開(kāi)始,待溫度到達設定值后,記錄溫度計讀數。每間隔10℃為一個(gè)測量點(diǎn),重復上述過(guò)程,至最高點(diǎn)。重復該實(shí)驗三次,分別求出相應點(diǎn)溫度示值的平均值 ,計算溫度示值誤差 :

      Δt=tp-ts

      式中:

      tp ——三次溫度示值的算術(shù)平均值(℃);

      ts ——樣品室溫度設定值(℃)。

      Δt ——溫度示值誤差(℃);

      當Δt 大于等于0.3℃時(shí),應對樣品室溫度的測量值作相應的修正,并修正與溫度有  關(guān)的測量參數介質(zhì)粘度η:

      t校=ts Δt

      式中:

      t校 ——樣品室溫度的校準值(℃)。

      7.4 平均粒徑的測量重復性

      測量標稱(chēng)值為100nm的粒度標準物質(zhì)的平均粒徑,按照第8章中所述方法制備樣品,重復6次。以測量值的相對標準偏差CV作為平均粒徑的測量重復性:

      CV=((∑(xi-xp)^2/(n-1))^0.5/xp)×100%

      式中:

      CV ——相對標準偏差(%);

      n ——測量次數;

      xi ——第i次平均粒徑的測量值(nm);

      xp ——n次平均粒徑測量值的算術(shù)平均值(nm);

      7.5 平均粒徑的示值誤差

      選取粒徑在儀器測量范圍內的粒度標準物質(zhì)若干個(gè),如平均粒徑分別為50nm、100nm、500nm,按照第8章中所述方法制備樣品,分別測量其平均粒徑xi ,每種標準物質(zhì)獨立測量3次,取其平均值xp ,平均粒徑的示值誤差等于平均值與標準值之差:

      Δx=xp-xs

      式中:

      Δx ——平均粒徑的示值誤差(nm);

      xp ——平均粒徑六次測量值的算術(shù)平均值(nm);

      xs ——平均粒徑的標準值(nm)。

      8 樣品的制備與測量

      8.1 分散介質(zhì)的制備

      用去離子水或蒸餾水制備濃度為0.01mol/L的氯化鈉溶液200ml。用孔徑為0.2mm的一次性過(guò)濾器過(guò)濾氯化鈉溶液。在分散介質(zhì)的制備過(guò)程中應注意避免灰塵的沾污。

      8.2 乳膠球顆粒懸浮液的制備

      乳膠球顆粒標準物質(zhì)通常裝在小的塑料擠瓶中,固體含量約為0.5%到10%。將它滴入稀釋液中,作間歇的超聲波處理,注意超聲波對懸浮液溫度的影響。

      8.3 樣品濃度的選擇

      樣品顆粒的濃度應有一適當的范圍。適當提高樣品顆粒濃度有利于提高測量結果的準確性;同時(shí)要避免濃度過(guò)高而引起的顆粒間的相互影響和作用,導致復散射的產(chǎn)生,影響顆粒粒徑的測量結果。

      不同儀器對樣品濃度要求不同,可以先作一個(gè)濃度選擇試驗:在至少相差二倍范圍內的不同濃度下測量顆粒的平均粒徑,如平均粒徑測量值不受濃度改變的影響,則在此二倍范圍內的濃度為合適濃度。

      8.4 測量

      8.4.1 儀器接通電源,預熱0.5小時(shí),使激光強度穩定、樣品室溫度達到設定溫度。

      8.4.2 將上述適量懸浮液倒入樣品池,將樣品池放于樣品室內樣品支架上,待樣品與樣品室的溫度達到平衡。

      8.4.3 預備性測量,以核驗顆粒濃度是否太低或者太高。

      8.4.4 測量平均粒徑。

      8.4.5 每次測量持續時(shí)間不少于60秒。

      8.4.6 應記錄下列數據:樣品標識、激光波長(cháng)和散射角(必要時(shí))、測量溫度、分散介質(zhì)的折射率和粘度、顆粒濃度,以及任何其他相關(guān)細節。

      9 校準結果的表達

      校準結果按附錄B中所列格式填寫(xiě),并出具校準證書(shū),用戶(hù)可據此判斷被校儀器技術(shù)指標的符合程度。

      10 復校時(shí)間間隔

      當儀器首次安裝、修理后或對測量結果有懷疑時(shí),應及時(shí)校準。

      復校時(shí)間間隔可根據使用的具體情況而定,一般不超過(guò)1年。

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