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高端人才科研啟動(dòng)費購原子力顯微鏡需求公示
2016/1/5 9:11:49
項目名稱(chēng) |
原子力顯微鏡 |
是否預選項目 |
否 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
采購人名稱(chēng) |
深圳大學(xué) |
采購方式 |
公開(kāi)招標 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
財政預算限額(元) |
1680000 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
項目背景 |
原子力顯微鏡 項目是(深圳市財政委員會(huì )批復的高端人才科研啟動(dòng)費)項目。
設備主要用途是:原子力顯微鏡一種新型納米顯微技術(shù),具有分辨率高、樣本制作方便等優(yōu)點(diǎn)。原子力顯微鏡的應用范圍廣泛,它不僅可以在常溫大氣環(huán)境下測量樣品的表面微觀(guān)形貌,還可以測量樣品表面的物理、化學(xué)、機械、電子、生物等特性,拓展樣品縱向的深度信息,被譽(yù)為“開(kāi)啟納米世界的鑰匙”,甚至可以在進(jìn)行納米微觀(guān)刻蝕。該設備在所屬項目中是作為聚合物刷圖案制備與表征的關(guān)鍵設備。 該設備項目預算為168萬(wàn)。 |
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投標人資質(zhì)要求 |
1)投標人”系指響應采購文件要求、參加本次招標采購的供應商。 (1) 投標人必須是來(lái)自中華人民共和國或是與中華人民共和國有正常貿易往來(lái)的國家或地區(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“合格來(lái)源國/地區”)的法人或其他組織,在法律上和財務(wù)上獨立、合法運作并獨立于招標人和招標機構,具有相關(guān)經(jīng)營(yíng)范圍,有資格和能力提供本采購項目的貨物及服務(wù)的制造商或代理商(或經(jīng)銷(xiāo)商)。須提供營(yíng)業(yè)執照或企業(yè)注冊證明復印件(經(jīng)營(yíng)范圍必須涵蓋本次招標貨物,加蓋公章)。深圳大學(xué)是科教儀器設備減免稅單位,如果是境外供貨,投標人應有境外供貨與外幣結算資格或者是取得了境外供貨貿易商的投標授權。 若投標人按照合同提供的貨物不是投標人自己制造的,投標人應得到貨物制造商同意其在本次投標中提供該貨物的正式授權書(shū)原件或是合法代理商(若投標人為合法代理商應出具有效代理證明掃描件,制造商除外)。 (2)證明投標人已具備履行合同所需的財務(wù)、技術(shù)和生產(chǎn)能力的文件。 (3)投標人須提供設備在國內的銷(xiāo)售業(yè)績(jì)表、合同復印件或中標通知書(shū)復印件(表中應列出設備的出廠(chǎng)日期、用戶(hù)名稱(chēng)、地址、聯(lián)系人及聯(lián)系方式等) (4)參與國際招標的投標人必須在中國國際招標網(wǎng)www.chinabidding.com 注冊成為會(huì )員,具有深圳市政府采購注冊供應商資格。
2)參與政府采購項目投標的供應商近三年內無(wú)行賄犯罪記錄(由采購中心定期向市人民檢察院申請對政府采購供應商庫中注冊有效的供應商進(jìn)行集中查詢(xún),投標文件中無(wú)需提供證明材料); |
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貨物清單 |
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具體技術(shù)要求 |
1.采購貨物配置功能要求,各設備的主要技術(shù)參數、性能規格
技術(shù)指標
Specifications
原子力顯微鏡主機
Atomic force microscope main unit
原子力顯微鏡的應用范圍廣泛,可以在常溫大氣環(huán)境下測量樣品的表面微觀(guān)形貌,還可以測量樣品表面的物理、化學(xué)、機械、電子、生物等特性,拓展樣品縱向的深度信息。要求配備聚合物筆印刷功能
The atomic force microscopy has a wide range of applications, and can be used to measure the surface morphology of the samples under normal temperature and atmospheric environment. The physical, chemical, mechanical, electronic, biological and other characteristics of the sample surface can be measured, also expand the depth information of the sample. Required polymer pen lithography function
1、 工作模式
Working mode
★1.1真正的非接觸式
True non-contact mode
1.2接觸式
Contact mode
1.3輕敲式
Tapping mode
1.4橫向力模式(LFM)
Lateral force mode
1.5力-距離曲線(xiàn)(F-D)
Force distance curve
1.6相位像
Phase image
★2、掃描器 Scanner
2.1閉環(huán)平板掃描器
Closed loop feedback scanner
2.2 XY掃描范圍:100um×100um
XY scan range: 100 × 100 μm
2.3分辨率:閉環(huán)0.2nm,開(kāi)環(huán)0.01nm
Resolution:0.2 nm (closed-loop), < 0.01 nm (open-loop)
2.4 Z掃描范圍:12um,分辨率:0.001nm
Z Scan range: 12 μm, Resolution: 0.001nm
3、原子力顯微鏡頭部
AFM Head
3.1 聚焦波長(cháng):
830nm Focusing wavelength:830nm
3.2工作范圍:12um(噪音水平0.03nm)
Moving range:12um (Noise level: 0.03 nm)
3.3 含:一個(gè)高伺服的撓性導向Z掃描器;一個(gè)夾裝探針的探針手;超亮二極管具有低相干性;預先對準的卡片裝配,換探針時(shí)無(wú)需拿下頭部
Including: one high servo flexible steering Z scanner; one probe hand with a clamp probe; a super light diode with a low coherence; a pre aligned card assembly, without taking the head when changing the probe.
★4、聚合物筆印刷頭部
Polymer Pen Lithography Head
4.1聚合物筆印刷功能描述:通過(guò)對被轉移材料的精確控制,可以在襯底表面構造出任意的納米結構,達到微/納米尺度加工精度。Polymer Pen Lithograph Function introduction: By the precise control of the transferred material,the structure can be constructed on the surface of the substrate to achieve the accuracy of micro / nano scale processing.
4.2工作范圍:25um
Working range:25um
4.3 含:一個(gè)高伺服的撓性導向Z掃描器;PPL探針手,水平角度:0度;10個(gè)PPL探針架
Including: one high servo flexible steering Z scanner; one PPL probe hand, horizontal angle: 0 degree; ten PPL probe carriages
5、輔助觀(guān)察系統
Assistant observation system
5.1樣品和探針到成像部件的光路嚴格同軸
Top view of sample and probe by providing the natural on-axis view from the top with high clarity
5.2 放大倍數:300倍
Magnification: 300
5.3 分辨率:1um
Resolution: ~1 μm
5.4 可觀(guān)察區域:480 × 360 μm
Field of View: 480 × 360 μm
5.5自動(dòng)聚焦臺的垂直行程:20mm
Vertical stroke of the auto focus table:20mm
6、成像系統
Imaging system
6.1 高分辨率數字變焦可調視場(chǎng)成像部件
Uses high resolution digital imaging system
6.2 最大分辨率:2440*1830
Effective Picture Elements: 2440 × 1830
6.3 視場(chǎng):最大1680*1260 μm;最小550*412 μm
Field of View: max: 1680 × 1260 μm ;min: 550 × 412 μm (variable)
7、XY自動(dòng)高精度樣品臺
XY Motorized XY Stage
★7.1 行程范圍:150mm×150mm
Travels up to 150 mm × 150 mm in both X and Y direction
★7.2 樣品尺寸:150mm×150mm
Sample size: Up to 150 × 150 mm
7.3 樣品厚度:20mm
Sample thickness: Up to 20 mm thick
7.4 支撐重量:500g
Working sample load: Up to 500 g
8、馬達控制Z方向樣品臺
Motorized Z Stage
★8.1 Z方向行程:27.5um
Z travel range: 27.5 mm
8.2 精度:0.1um
resolution :0.1 μm
8.3 重復性:2um
repeatability :2 μm
9、軟件
Software
9.1專(zhuān)用的系統控制和數據獲取軟件,實(shí)時(shí)調整反饋增益、設置點(diǎn)、驅動(dòng)頻率/振幅/相位;AFM數據分析軟件可運行在Windows。
XEP for data acquisition and optical view. XEI for image processing, analysis, and presentation. AFM data analysis software can be run in Windows
★9.2 聚合物筆印刷軟件
Software for Polymer Pen Lithography
9.2.1支持筆畫(huà)類(lèi)型:點(diǎn)、線(xiàn)、點(diǎn)陣、線(xiàn)列、圖案
Pattern type: Point, Line, Array of dots, Array of lines, and Bitmap
9.2.2支持筆畫(huà)控制參數:
Control windows for patterning parameters
點(diǎn)及點(diǎn)陣的停留時(shí)間、Z方向的伸長(cháng)/提起距離、Z方向的伸長(cháng)/提起速度;
Point & point array: Dwell time, Z extension/lift height, and Z extension/lift speed
線(xiàn)及線(xiàn)列的停留時(shí)間、Z方向的伸長(cháng)/提起距離、Z方向的伸長(cháng)/提起速度、劃線(xiàn)速度;
Line & line array: Dwell time, Z extension/lift height, Z extension/lift speed, and Line speed
圖案每種顏色的停留時(shí)間、Z方向的伸長(cháng)/提起距離、Z方向的伸長(cháng)/提起速度;
Bitmap: Dwell time, Z extension/lift height, and Z extension/lift speed for each color value
9.2.3 用于調整樣品及針尖的水平系統
Leveling system for sample/tip align
9.2.4 可以打開(kāi)或保存為XML文件
File format: XML
10、附件:標準光柵、10根接觸式探針和10根非接觸式探針、10個(gè)樣品臺
Accessories: standard grating, 10 contact probes and 10 non-contact probes, 10 sample tables
原子力顯微鏡環(huán)境倉
Environmental Chamber (Glove Box) for AFM
1、 環(huán)境倉尺寸:完全包容原子力顯微鏡主機,控制整體氣氛
Box size: Fully inclusive of the atomic force microscopy main unit, control the overall atmosphere
2、 環(huán)境倉厚度:≧15mm
Box thick:≧15 mm
3、 環(huán)境倉材質(zhì):亞克力材質(zhì)
Box material: acrylic
4、含:乳膠手套、進(jìn)樣室、氣體交換口
with latex gloves ,an Antechambe, electrical feed-throughs and gas exchange outlets
原子力顯微鏡濕度控制系統
Humidity Control System for AFM
1、 作用:控制環(huán)境倉的濕度
Controls the humidity of the Glove Box option
2、 濕度控制范圍:從2到90%
Humidity control range: from 2 to 90 %
主動(dòng)式減震臺
Integrated Active Vibration Isolation
1、 作用:通過(guò)電磁換能器的直接速度反饋的主動(dòng)隔振,以消除地面振動(dòng)。
Provides active vibration isolation with direct velocity feedback via electromagnetic transducers to cancel out the floor vibration.
2、 減震頻率:1.2~ 200HZ
Active 1.2 Hz to 200 Hz
標準隔音罩
Acoustic Enclosure (Bottom Enclosure)
1、 作用:環(huán)境密封隔音罩,以阻止外部聲和噪音
Environmentally sealed acoustic enclosure to block external acoustic and light noise
2、 尺寸:820×920×1190毫米
Size: 820×920×1190mm
3、 含:大理石落地平臺
Including: Marble landing platform |
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商務(wù)需求 |
備注:
1. “(一)免費保修期內售后服務(wù)要求”部分,請詳細列明免費保修期內的售后服務(wù)要求,內容包括但不限于免費保修期限、售后服務(wù)人員配備、技術(shù)培訓方案、質(zhì)量保證、違約承諾、維修響應及故障解決時(shí)間、方案等。
2. “(二)免費保修期外售后服務(wù)要求”部分,請詳細列明免費保修期外的售后服務(wù)要求,內容包括但不限于零配件的優(yōu)惠率、維修響應及故障解決時(shí)間、方案、提供的服務(wù)等。 3. “(三)其他商務(wù)要求”部分,如有補充,請詳細列明。 |
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技術(shù)規格偏離表 |
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商務(wù)規格偏離表 |
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評標信息 |
評標信息
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其它 |
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附件 |
原子力顯微鏡.doc |